Firma HP oznámila, že po deseti letech vývoje může nabídnout k licencování nanotiskovou litografii (NIL- nanoimprint lithography), která je určena k výrobě polovodičů. S NIL se dají přímo do substrátu lisovat spoje o šířce i menší jak 50 atomů. Výzkumníci z HP vyvinuli technologii, se kterou je možné vyrobit experimentální obvod o šířce spojů pouhých 15 nm, tedy jednu třetinu toho, co mají nejvyspělejší firmy představit letos. Výrobu slibují nadmíru jednoduchou, po vytvoření matrice jde jen o lisování podobně jako u LP nebo CD. Vytvořený vzor pak postačí vylít vodivým materiálem. Což sice zní hezky, ale praxe jistě bude o poznání složitější, přece jen jde o 15 nm. Spolu s kalifornskou Nanolithosolutions Inc. také vyvinuli modul, se kterým se dají na substrátu tvořit jak spoje, tak i tranzistory.

„Stavějíc na rozsáhlém výzkumu HP věříme, že přinášíme nástroj, který umožní spolehlivě a opakovaně pracovat na zkoumání bio a fotonových čipů a mnoha dalších aplikací,“ řekl šéf Nanolithosolution, pan Bo Pi a dodává, „Věříme, že to bude velmi užitečná věc pro akademickou, ale i komerční sféru na celém světě, protože vyjde asi na desetinu toho, co technologie současné“. Nanolithosolution založili pánové Bo Pi a Yon Chen, kteří byli dříve členy HP Labs a samotná HP má v této firmě také jistý majetkový podíl. V podstatě se dá říci, že tato firma je tu k tomu, aby dotáhla výzkumy HP do technologicky proveditelné a tedy i licencovatelné podoby.