20nm technologii nám na konec příštího roku slibuje jak Sandisk, tak i Toshiba, ale s integrovanými obvody je to trošku něco jiného a tak až teprve zítra na Microprocesses and Nanotechnology Conference Toshiba oficiálně představí první opravdový křemíkový plátek na kterém byla prakticky vyzkoušena výroba 20nm generací. To, co na mikrofotografii vpravo vidíte, jsou proužky touto technologií vyrobené, jež jsou od sebe vzdáleny 22 nm. Právě výroba samotná, tedy litografie, byla největším problémem, protože se zde začalo už narážet na samotnou velikost molekul používané sloučeniny a Toshiba nyní prohlašuje, že se jí podařilo namíchat sloučeninu jinou, s menšími molekulami, jejímž základem byl materiál zvaný truxene.

Paměti vyrobené 20nm technologií tedy už možná v příštím roce uvidíme, procesory, grafiky nebo jiné integrované obvody leptané (asi tomu tak stále můžeme říkat) 20nm generací výroby, si ale budou muset ještě nějaký ten pátek počkat. Odhaduje se, že by se tak mohlo stát někdy v roce 2013.