Podle jejich tiskové zprávy se jedná o první hromadnou výrobu LSI s použitím 45nm výrobní technologie. Dosažení tohoto 45nm výrobního procesu jim umožňuje použití ponorného (imersního) ArF scanneru s numerickou aperturou větší než 1 a použití rychlých tranzistorů s nízkým příkonem (stress-induced mobility-enhanced transistor si překládat netroufám). Panasonic (Matsushita Electric Industrial) je tak schopen vyrábět čipy se spotřebou o třetinu až polovinu menší než LSI obvody vyrobené na 65 nm. Tyto nové čipy jsou také menší a pochopitelně rychlejší. Výrobní závod se nachází ve městě Uozu v prefektuře Toyama v Japonsku.