Špak dále konstatoval, že právě probíhá testování skeneru v rámci technologické linky v Zelenogradu (severozápadní exkláva Moskvy), ale nic dalšího neupřesnil. Není tedy jasné, zda skener bude reálně používán k sériové výrobě - pokud ano, bude stačit na čipy pro řízení napájecích obvodů, méně náročné automobilové čipy a podobně, ale s ohledem na 350 nanometrů jako strop nelze očekávat nic moc náročnějšího.

350nm proces začal Intel používat v roce 1995 s generací Pentium MMX a AMD roku 1997 s K6. I v kontextu ruského polovodičového průmyslu jde o poměrně obstarožní záležitost, neboť provozy Angstrem a Mikron nabízejí 250nm až 90nm procesy. 350nm generace už byla vyřazena z nabídky.

Se skenerem pro 350nm proces získalo Rusko část technologií potřebných pro výrobu Pentium MMX (Shutterstock)

Je proto možné, že skener nemá sloužit ke komerční (ani žádné jiné sériové) výrobě, ale že vznikl spíše jako testovací platforma, na které má být ověřena možnost vývoje a výroby vlastních litografických nástrojů pro polovodičovou výrobu. Rusko opustila většina západních výrobců, od kterých mohlo nakupovat čipy. Na některé produkty uvalila embargo i Čína. Lze předpokládat, že probíhá hledání cest, jak zajistit dodávky alespoň části portfolia, které země potřebuje.

Ruská vláda v roce 2023 představila plán, podle kterého mělo dojít v první řadě na rozšíření výrobních kapacit na 90nm procesu (ještě v tomtéž roce), následně do roku 2027 zajistit vlastní 28nm výrobu  a do roku 2030 rozběhnout 14nm proces. Podle dostupných informací zatím tyto plány nabírají skluz. Pokud mají tyto plány stát na vlastních fotolitografických skenerech, pak by se jako optimistický jevil i plán ~65nm procesu do roku 2027 a ~45nm do roku 2030. Pokud mají stát na stávajících skenerech s využitím vícenásobného vzorkování, pak zase bude problém ve snížení výrobních kapacit na zlomek současných, neboť vícenásobné vzorkování je časově náročné, takže počet zpracovaných waferů za jednotku času několikanásobně klesá.