Žaloby mezi firmami navzájem i mezi firmami, výzkumnými ústavy a univerzitami jsou v drtivé většině o patentech a není tomu jinak ani v tomto případě. STC.UNM, což je neziskovka University of New Mexico provádějící správu jejich patentů, podala žalobu na společnosti Samsung a TSMC, ve které je obvinila z nelegálního využívání patentu podle kterého jsou litografii dány další možnosti při zmenšování výrobních procesů. STC.UNM žádá americkou obchodní komisi, aby těmto firmám zakázala dovoz výrobků, ve kterých je tento patent použit, do USA. Podotýkají, že využití technologie v patentu číslo 6 042 998 (Method and Apparatus for Extending Spatial Frequencies in Photolithography Images) jim dává nespravedlivou výhodu před konkurencí, která na to musela přijít sama, nebo za tento patent platí. Stejně už vloni řešili podobný problém s Toshibou, kde nakonec došlo ke stažení žaloby, když se Toshiba stala oficiálním držitelem licencí na patenty STC.UNM.

Asi netřeba připomínat, že právě otázka litografie patří při zmenšování výrobních procesů nyní k těm nejožehavějším. Co je ale zvláštní, že STC.UNM tento patent vlastní už od roku 2000 a problém se zneužitím patentu mají až nyní. Buďto tam mají neskonalý nepořádek, nebo s tím čekali až do doby, kdy žalované firmy už nemohou jít jinou cestou a díky rozjeté výrobě i jejímu objemu mohou očekávat tučnější odměnu. Inu bez těch právníků by asi pokroku nebylo.