TSMC úspěšně pokračuje ve výstavbě továrny, jejíž pomyslný základní kámen položila začátkem letošního léta. Továrna ponese název Fab 15 a její hlavní náplní bude výroba 300mm waferů na 10nm technologii. Společnost oznámila, že zkušební výrobu zahájí ve druhé polovině roku 2016, což je plus mínus za rok. Oproti starším zprávám jde o upřesnění, byť v mírně negativním slova smyslu - společnost původně uváděla, že fyzické 10nm čipy bude mít v rukou v roce 2016; nyní už je jasné, že v první polovině roku to nebude.

Lze očekávat, že někdy v roce 2017 dojde na první sériově vyráběné 10nm ARM procesory a ve druhé polovině roku 2018 bychom se mohli dočkat prvních 10nm čipů pro desktop (tape-out první dvacítky 16nm čipů proběhl v první polovině rok 2014, vydání prvních 16nm čipů pro desktop očekáváme v první polovině roku 2016 - jde tedy o cca dvouletý interval). To vše ovšem platí jen za předpokladu, že nedojde k výraznějším než očekávaným problémům.

Problémy se ovšem očekávat dají. 16nm proces se co do rozměrů nejmenších struktur prakticky nelišil od 20nm - TSMC se „pouze“ učila FinFET výrobu. Přechod na 10 nanometrů ale bude složitější - jde již o klasické zmenšení, což s sebou nese tradiční problémy ještě umocněné v důsledku přibližování k fyzikálním limitům pro použité materiály.

Například redakce webu WCCFTech sice pokrok 10nm procesu TSMC poměrně zlehčuje (tvrdí, že bude fakticky odpovídat 14 nanometrům Intelu), ale tato slova nejsou na místě. Základní 10nm proces TSMC (CLN10FF) oproti pokročilejší variantě 16nm procesu téže společnosti (CLN16FF+) zvýší denzitu o 110-120 % (a dále buďto zvýší takty o 15 % bez zvýšení spotřeby, nebo sníží spotřebu o 35 % bez zvýšení taktů). Byť jsou tato čísla jako vždy mírně idealizovaná, je z údajů o denzitě jasné, že 10nm proces TSMC bude muset pokročit mnohem dál, než kde je 14nm proces Intelu. Při porovnání s tabulkou dosavadních procesů, kterou sestavil Hiroshige Goto, vychází najevo, že 10nm proces TSMC bude někde mezi 14- a 10nm procesem Intelu. Dokonce dost možná blíže druhému, tedy menšímu, což ostatně koresponduje s únorovým vyjádřením společnosti, která věří, že jejích 10 nanometrů bude na stejné úrovni jako 10 nanometrů Intelu.