2017

Během letošního roku zpřístupní Samsung svým zákazníkům linky pro 14nm LPU proces, 10nm LPU proces a 8nm LPP proces. Zpřístupněním je míněno (stejně jako ve všech níže zmíněných případech) zahájení rizikové výroby. Riziková výroba znamená, že zákazníci mohou objednávat a Samsung bude vyrábět, ale neposkytuje záruky na výtěžnost, dosažitelné takty a podobně. Zda proces zákazníkům vyhovuje, se musejí rozhodnout na vlastní riziko (podle vzorků).

Můžeme připomenout, že proces 14nm LPU (low power ultimate) zvyšuje takty oproti předešlým variantám procesu při zachování napětí (jako u 14nm LPC). Podle dostupných informací si GlobalFoundries tento proces nelicencuje, protože další vývoj 14nm procesu provádí ve vlastní režii (vylepšenou 14nm výrobu by měla nabídnout druhá generace procesorů Ryzen a GPU Vega chystaná pro rok 2018).

2018

Příští rok přijde Samsung s první generací EUV procesu, konkrétně 7nm. EUV litografie je náročnější na vstupní investice a její zprovoznění bude vyžadovat několik kvartálů navíc oproti stávajícím technologiím (odhadují se zhruba tři), ale umožní přesnější realizaci malých struktur. Jinými slovy lepší vlastnosti 7nm procesu a snazší výrobu „menších“ procesů. 7nm generaci zpřístupní Samsung během příštího roku. Již je známo, že pokud se povede, licencuje si ji GlobalFoundries pro doplnění vlastního 7nm (imerzního) procesu vyvinutého s bývalými inženýry IBM. EUV proces Samsungu v podání GlobalFoundries je jedním z potenciálních kandidátů na výrobu procesorů architektury Zen 3 a grafických jader následujících po generaci Navi.

2019

Rok 2019 bude ve znamení dalších generací EUV procesu. Konkrétně 6nm a 5nm. Cílem Samsungu je ukořistit co nejvíce zakázek na výrobu mobilních čipů. Potenciálními zákazníky jsou Apple, Qualcomm, ale i třeba MediaTek a další. Časné nasazení pokročilého procesu znamená strategickou výhodu i pro vlastní mobilní procesory Exynos. Zda již existují plány na využití těchto procesů i v rámci PC platformy (procesory, grafické karty) ještě není známo. Zatím se ani neví, zda GlobalFoundries bude vyrábět nástupce 7nm generace ve vlastní režii, nebo sáhne po nabídce Samsungu.

2020

Výhled na rok 2020 je obzvlášť zajímavý, protože dojde k nasazení technologie GAA (Gate All Around) namísto FinFET. Využita bude EUV litografie a první proces, který tímto postupem vznikne, bude 4nm. Pokud jde o značení výrobních procesů, mějte na paměti, že už jde dávno o bezrozměrnou veličinu, kde je „nm“ údaj tak nějak v rozporu s definicemi SI. Lze předpokládat, že např. tento 4nm by byl něčím, co by ještě před několika lety bývalo označované jako ~6nm proces. Údaje v současnosti slouží spíše jen ke sdělení, že „4nm“ proces bude lepší než „5nm“ od téže firmy.