Masová výroba na 2nm procesu TSMC nezačne dříve než příští jaro
Delší dobu je známo, že pokročilejší verze 2nm procesu (N2P) se dostane do fáze velkokapacitní výroby někdy ve druhé polovině roku 2025, půjde-li vše jako na drátkách. O první verzi procesu, základním N2, se však mluvilo méně. Teprve nyní se dozvídáme, že TSMC plánuje začít velkokapacitní výrobu nejdříve na jaře 2025.
EUV | zahájení výroby / tape-out | velkokapacitní výroba | ||
---|---|---|---|---|
Samsung | 7nm LPE (1. gen.) | ? | nezahájena | |
7nm LPP (2. gen) | říjen 2018 | červen 2019 | ||
7nm (3. gen) | ? | ? | ||
6nm LPP | duben 2019 | H2 2019 | ||
5nm LPE | 4. 2019 / H2 2019 | H1 2020 | ||
5nm LPP | 2019? | 2021 | ||
4nm LPE (původní) | ? | 2020/21 zrušen | ||
4nm LPP (původní) | ? | 2022 zrušen | ||
4nm LPE | 2021? | 2022 | ||
4nm LPP | ? | ? | ||
4nm (4HPC / SF4X) | ? | ? | ||
3nm (3GAE / SF3E) | Q4 2021 | H2 2022 jen interně | ||
3nm (3GAP / SF3) | ? | 2023 | ||
2nm (SF2) | ? | 2025 | ||
2nm (SF2P) | ? | 2026 | ||
1,4 nm (SF1.4) | ? | 2026 | ||
TSMC | 7nm (N7) | leden 2017 | duben 2018 | |
7nm (N7P) | ? | ? | ||
7nm EUV (N7+) | říjen 2018 | červen 2019 | ||
6nm | Q1 2020 | ? | ||
5nm (N5) | duben 2019 | H1 2020 | ||
5nm (N5P) | ? | 2021 | ||
4nm (N4) | Q3 2021 | Q1 2022 | ||
4nm (N4P) | H2 2022 | H2 2022 | ||
4nm (N4X) | H1 2023 | 2023 | ||
3nm (N3/N3B) | Q4 2021 | prosinec 2022 | ||
3nm (N3E) | ? | Q3 2023→Q2 2023 | ||
3nm (N3P) | ? | 2024 | ||
3nm (N3S) | ? | 2024 | ||
3nm (N3X) | ? | 2025 | ||
2nm (N2) | Q4 2024 | Q2 2025 | ||
2nm (N2P) | ? | H2 2025 |
2nm generace TSMC je docela složitá záležitost. Po éře 3nm výroby bude poměrně dlouho očekávanou technologií, nicméně přínos procesu bude dost omezený. Zatímco třeba 5nm oproti 7nm přinesl o 80 % vyšší denzitu (tedy možný počet tranzistorů na jednotku plochy), od 2nm se očekává asi 10-15 % posun oproti 3nm, podle toho, s jakou verzí 3nm výroby srovnáváme. Ani posun v taktech nebude příliš zajímavý, počítá se s 13 % nad 3nm procesem N3E 2-1 Fin (což je varianta, která má ze všech tří konfigurovatelných variant nejnižší dosažitelné takty). Dosažitelné takty tedy budou někde na úrovni 3nm procesu, denzita kosmeticky lepší a asi jediné, co stojí za zmínku, je spotřeba (při stejných taktech) o ~33 % nižší (opět oproti N3E 2-1 Fin).
Tento proces patrně nasadí jen Apple a možná pár dalších výrobců drahých mobilních SoC. Výkonnější hardware nejspíš počká na výkonnější variantu 2nm procesu N2P, která dorazí o 1-2 kvartály později (nejoptimističtější varianta) a která proti základnímu N2P přinese dalších ~10 % denzity i taktů navíc (při srovnání s 3nm generací tak půjde o cca 20-25% posun, což už může být důvodem k přechodu na nový proces.
Problémem však bude cena. Zatímco ještě koncem loňského jara hovořily kvalifikované odhady o ceně kolem $25 000 za wafer (což by bylo relativně příznivé), během letošní zimy odhady narostly na $30 000 za wafer, což by činilo i pokročilejší N2P proces poměrně nezajímavým (2nm čip by byl podstatně dražší než 3nm i při zohlednění faktu, že se jich na wafer vejde více).