ASML se daří, EUV litografie dosáhne nejméně na 5nm výrobu
HMI je specialistou na nástroje pro kontrolu toku elektronů ve výrobě čipů. ASML nemusíme představovat a vězte, že kombinací technologií obou firem vzniká další potenciál pro EUV litografii, který si samozřejmě ale ještě vyžádá další vývoj. Každopádně už dnes hovoří ASML o tom, že výzvy jako výroba 3D FinFET čipů méně než 10nanometrovou technologií jsou zvládnutelné. Pomocí toku elektronů lze detekovat elektrické chyby ve strukturách, takže koupě HMI byla pro ASML klíčová.
Jak víme už z dřívějška, s ASML spolupracují a v podstatě do firmy lijí obrovské peníze všichni velcí výrobci, Intelem počínaje, dále přes Samsung a konče třeba u TSMC. Právě o TSMC víme, že hodlá s EUV vydržet trochu déle, než se dříve čekalo, nově ale nehovoří jen o 7nm procesu, ale rovnou o 5nm výrobě na bázi EUV litografie, samozřejmě značně inovované. Právě kontrola struktur pomocí toku elektronů je tím více klíčová, v čím menších nanometrech se pohybujeme a rozhodně to platí pro 5nm a menší struktury.
Nikde samozřejmě není napsáno, že je vše hotovo. Firmy, tedy možná přesněji ASML, má nyní k dispozici všechny potřebné ingredience, aby dala potřebné technologie dohromady, ale je to jako s jídlem. To, že máte k dispozici skvělé suroviny a návod, ještě neznamená, že vyrobíte famózní pokrm. ASML má skvělé šéfkuchaře, takže jim držme palce, ať se recept podaří odladit hned napoprvé a postup směrem pod 7nm či až pod 5nm struktury je na světě co nejdříve.